DGIST, 차세대 AI 반도체 고효율 공정 기술 개발

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DGIST, 차세대 AI 반도체 고효율 공정 기술 개발

[정보통신신문=박남수기자] 대구경북과학기술원(DGIST) 전기전자컴퓨터공학과 장재은 교수팀(김동수 박사과정생)과 권혁준 교수팀(정희재 박사과정생)이 차세대 인공지능(AI) 메모리 트랜지스터의 고효율 공정기술을 개발했다. 공동연구팀은 비휘발성 메모리 특성, 고속 작동, 저전력 소비, 긴 수명 및 내구성을 갖춘 ‘강유전체 전계 효과 트랜지스터’가 가진 고온 공정의 단점을 극복해 차세대 AI 반도체의 핵심 기술인 이종 접합 구조의 구현이 가능하도록 나노초 펄스 레이저 기반의 ‘선택적 열처리 방법&rsquo
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